GaN HEMT

2024/10/24 4:42:43

【氮化镓】TCAD模拟研究缓冲层对器件SEB的影响机制

这篇文章是西安电子科技大学郝跃院士团队关于p-GaN门高电子迁移率晶体管(HEMTs)在单粒子烧毁(SEB)性能方面的研究,特别关注了缓冲层参数对SEB的影响。文章通过技术计算机辅助设计(TCAD)模拟来分析不同缓冲层电子迁移率和重离子入射深度对SEB特性的影响。 引言(Introdu…