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GaN HEMT
2024/10/24 4:42:43
【氮化镓】TCAD模拟研究缓冲层对器件SEB的影响机制
这篇文章是西安电子科技大学郝跃院士团队关于p-GaN门高电子迁移率晶体管(HEMTs)在单粒子烧毁(SEB)性能方面的研究,特别关注了缓冲层参数对SEB的影响。文章通过技术计算机辅助设计(TCAD)模拟来分析不同缓冲层电子迁移率和重离子入射深度对SEB特性的影响。 引言(Introdu…
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