半导体制造技术中的沉积和驱入(Deposition and drive-in)过程

ops/2024/9/23 11:20:28/

来源:半导体制造技术导论——萧宏

沉积和驱入过程

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图5.34 硼掺杂工艺炉系统示意图
图5.34 硼掺杂工艺高温扩散炉系统示意图
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图5.35 扩散掺杂工艺流程
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图5.36 扩散工艺在超浅结深(USJ)上的应用


http://www.ppmy.cn/ops/111632.html

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