载流子的浓度
- 本征激发的速度与温度相关;
- 复合与载流子浓度相关;
- 当温度升高时,本征激发加剧,载流子浓度逐渐上升;
- 同时随着载流子浓度上升,复合加剧,载流子浓度逐渐下降;
- 最终,本征激发和复合达到动态平衡,载流子浓度趋于稳定;
- 总之,载流子浓度与温度相关;
- 本征半导体的本征激发产生的载流子浓度很低,导电性很弱;
杂质半导体
- 半导体材料有很强的可掺杂性;
- 杂质半导体:在本征半导体中,掺入少量的杂质元素;
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N型半导体:在本征半导体中掺入5价元素磷;掺入一个5价磷元素,就多一个自由电子;参入少量的杂质元素后,杂质半导体的载流子浓度就远比本征半导体的载流子高,甚至高上百万倍;
(1)N型半导体中,载流子依然是两种,即自由电子和空穴;
(2)N型半导体中,自由电子的浓度远远高于空穴的浓度,即自由电子是多数载流子,简称多子;空穴为少数载流子,简称少子;
(3)N型半导体中,主要的导电粒子为自由电子,自由电子带负电,所以称之为N(Negative,负极的)型半导体;【N型半导体本身不带负电。因为虽然N型半导体中带负电自由电子的浓度远远高于带正电的空穴,但N型半导体中还有浓度很高的带正电的磷粒子;】
(4)温度对杂质半导体中的多子浓度影响不大(杂质半导体中的多子浓度远远大于本本征激发产生的载流子浓度);
(5)温度对杂质半导体中的少子浓度影响非常大(因为多子浓度很高,复合加剧,杂质半导体中少子的浓度低于本征激发产生的载流子浓度) -
P型半导体:在本征半导体中掺入三价元素硼;
(1)P型半导体中,载流子依然是两种,即自由电子和空穴;
(2)P型半导体中,空穴的浓度远远高于自由电子的浓度,即空穴是多数载流子,简称多子;自由电子为少数载流子,简称少子;
(3)P型半导体中,主要的导电粒子为空穴,空穴带正电,所以称之为P(Postive,正极的)型半导体;【P型半导体本身不带正电。因为虽然P型半导体中带正电空穴的浓度远远高于带正电的空穴,但P型半导体中还有浓度很高的得到自由电子带负电的硼粒子;】
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PN结
- PN结的形成
- 扩散运动:粒子在浓度梯度的驱动下,从浓度高的地方向浓度低的地方运动;
- 由于扩散运动,在P型半导体和N型半导体的交接处,P型半导体的空穴扩散到N型半导体,N型半导体的自由电子扩散到P型半导体,进行复合,造成空穴和自由电子大量耗尽。之后逐渐形成一个电场方向从N型半导体指向P半导体的空间电荷区,阻止进一步扩散运动;该空间电荷区就是PN结(PN junction,junction,汇合处),也称为耗尽层或阻挡层;
- 在热运动的作用下,依然会有一些多子的扩散运动;
- 空间电荷区(PN结)会促进P型半导体和N型半导体中的少子移动到对方,称之为漂移运动;
- 多子的扩散运动和少子的漂移运动会逐渐达到动态平衡;
- 当P型半导体和N型半导体的掺杂浓度一样时,形成的PN结是对称的,称之为对称结,即P型半导体和N型半导体中耗尽层宽度一样;
- 当P型半导体和N型半导体的掺杂浓度不一样时,形成的PN结是不对称的,称之为不对称结,即浓度高的半导体中耗尽层窄,浓度低的半导体中耗尽层宽;
- PN结的单向导电性
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当在PN结两端加正向电压时(P型半导体接正极,N型半导体接负极)。
- 当正向电压从0逐渐增大,与正向电压电场力方向相反的PN结逐渐变薄,这一段电压内,电路中几乎没有电流,称之为死区;
- 当PN结变薄到一定程度,正向电压稍微增大一点,电路中的电流就呈指数上升,电路导通;(即外电场削弱内电场作用,扩散运动重新恢复)
- 电阻R限制电路中通过的最大电流(U/R),防止电流过大,烧毁PN结;
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当在PN结两端加反向电压时(P型半导体结负极,N型半导体结正极);
- 外电场方向与内电场方向一致,耗尽层变厚;少子的漂移运动加剧,产生漂移电流,但电流很小,uA级,称为反向饱和电流;【漂移电流是少子产生的,所以对温度很敏感】
PN结的电流方程
i = Is(eU/Ut - 1)
- Is是反向饱和电流;
- Ut是温度当量,室温下是26mV;
- PN结的导通电压:
- 锗管:0.2~0.3V;
- 硅管:0.6~0.7V;
- U/Ut远远大于1;